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半导体部门三星代工宣布,其位于 Hwasong 的工厂已开始生产 3nm 芯片。与使用 FinFet 技术的上一代产品不同,这家韩国巨头现在采用 GAA(Gate-All-Around)晶体管架构,显着提高了能源效率。

采用 MBCFET(多桥通道)GAA 架构的 3nm 芯片将通过降低电源电压等方式获得更高的能效。三星还在高性能智能手机芯片组的半导体芯片中使用纳米板晶体管。

与纳米线技术相比,具有更宽通道的纳米板可实现更高的性能和效率。通过调整纳米板的宽度,三星客户可以根据自己的需求定制性能和功耗。

三星表示,与 5nm 芯片相比,新芯片的性能提高了 23%,能耗降低了 45%,面积缩小了 16%。他们的第二代产品性能应提高 2%,效率提高 30%,面积缩小 50%。

“随着我们在制造领域应用下一代技术方面不断展现领先地位,三星正在快速发展。我们的目标是通过采用 MBCFETTM 架构的首款 3nm 工艺继续保持这一领先地位。我们将继续在有竞争力的技术开发方面积极创新,并创建有助于加速实现技术成熟的流程。” 三星半导体业务负责人 Siyoung Choi 表示。

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